1.1 货物名称：等离子体增强化学气相沉积设备
1.2 招标编号：0779
1.3 项目概况
设备通过感应耦合等离子体方式（ICP）产生高密度等离子体，在硅及化合物半导体等衬底上沉积高质量的介质薄膜（例如氧化硅SiO2、氮化硅SiNx、氮氧硅SiOxNy等）。
设备主要指标：
（1）样品尺寸：最大6英寸直径晶圆、向下兼容更小的晶圆片或不规则碎片，不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔室的开腔破真空；
（2）反应腔室本底真空≤ 1E-6 mbar，真空漏率≤ 2E-4 mbar·L/s；
（3）温度控制：采用背氦传热的动态温度控制系统，温度控制范围不小于 +30℃~+300℃，温度控制精度≤±1℃。
更多技术指标详见第八章。
1.4 数量：1套。
1.5 交货期：合同签订生效后8个月内到达用户现场。
1.6 项目现场：中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所指定地点。
2. 对投标人的资格要求
2.1 投标人必须是响应招标的法人或其他组织，具有独立承担民事责任能力。
2.2本次招标接受代理商投标，代理商必须获得制造商的合法授权，提供制造商授权书。授权书包括制造商直接开具的；或制造商的独资公司开具的（同时须提供制造商与独资子公司的关系说明，并由双方签字或者盖章）。
2.3投标人所投标设备2023年1月1日至今同品牌同型号的销售量≥3套，提供设备销售业绩证明（提供有效合同首页，技术协议及验收报告等证明材料，证明材料需有双方盖章）
2.4本项目不接受联合体投标。
3. 招标文件获取
3.1凡有意参加投标者，请于2026年1月19日至2026年1月27日17时(北京时间)下载招标文件,现场不予受理。
本招标项目仅供 正式会员查阅，您的权限不能浏览详细信息,请点击注册/登录，请联系工作人员办理入网升级。
联系人：方婷
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