刻蚀系统-氧化铝&氮化硅采购项目预算金额：320.********万元(人民币)采购品目：A********真空应用设备采购需求概况：为满足团队在微纳加工领域的科研与生产需求，现拟采购一套高性能电感耦合等离子体（ICP）刻蚀系统，主要用于氧化铝（Al？O？）和氮化硅（Si？N？）材料的精确刻蚀加工。具体需求如下：系统类型：电感耦合等离..
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