围********招标编号：ZKX****************招标项目名称：全自动CMP抛光系统********数量：1套********设备用途及系统组成：设备用途：全自动CMP抛光系统主要应用于量子传感、硅光、MEMS等含有微纳图形的晶圆加工工艺中实现均匀性和原子级表面平整的抛光。系统组成：全自动CMP抛光系统主要由EFEM单元、研磨抛光单元、清洗单元机械传输单元等组...

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