一、主体指标★1.1真空腔室：尺寸：Ф≥500mm×≥p20mm ，前开门结构，顶板焊水线，内表面应用电抛等清洁处理，焊缝应采用氩弧焊接且内表面抛光。1.2真空系统组成：复合分子泵 + 直联高速旋片式真空泵 + 高真空阀门 + 数显复合真空计。▲1.3其中分子泵，抽速≥1200 L/s；直联高速旋片式真空泵为抽速≥ 9L/s。1.4真空极限：设备空载抽真空 24 小时后，可达 6.0×10？？Pa。★1.5升压率：≤0.8Pa/h（12 小时平均值）；停泵 12 小时后，设备真空度≤10Pa。▲1.6抽速：从大气抽至 5.0×10？3Pa，设备空载时≤15min；设备空载且在干燥氮气环境下≤10min。二、基片台相关指标★2.1尺寸与样品规格：基片台尺寸 Φ150mm，最大样品尺寸≤ Φ150mm，配有基片台挡板。★2.2旋转功能：旋转转速 0～20 转/分钟（或转速包含该范围），可调可控，主轴采用磁流体密封。绝缘与偏压：基片台与腔室绝缘设计，可接脉冲偏压电源。加热功能：基片台环境温度可从室温升至 500±1℃，采用 PID 智能温控闭环控温，可控可调，且采用铠装加热器及绝缘、屏蔽等设计。三、溅射靶及电源相关指标★3.1溅射靶配置：3 套 3 英寸磁控溅射靶，向上溅射，可溅射磁性材料，各靶配有气动挡板结构。▲3.2工作方式：各靶可独立、顺次、共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜。电源参数：★3.2直流脉冲溅射电源：1kW，数字化控制及显示，共 2 台。★3.4科射频电源：600W，数字化控制及显示，共 1 台。3.5脉冲偏压电源：-1kV，数字化控制及显示，共 1 台。★3.6高速脉冲 I-V 测试电压范围≥80Vp-p。★3.7高速脉冲 I-V 测试电流量程至少包含 800mA、200mA、10mA、1mA、100μA、10μA、1μA四、气路系统相关指标▲4.1质量流量控制器及量程：Ar 为 ≥100sccm；N？为 ≥50sccm；O？为 ≥20sccm。气路组件：含 Φ6mm 电磁截止阀、三进一出混气管，采用 EP 管道（内外抛光金属管）。五、其他关键指标5.1膜厚不均匀性：≤±5%（单靶镀膜，基片台 Φ120mm 范围内）。5.2自动恒压系统：由薄膜规 + 调节阀 + 辅助系统 + 控制系统组成。▲5.3控制方式：PLC + 触摸屏控制，可实现自动一键式抽真空，蒸发镀膜电源手动控制。报警及保护：具备缺水报警及相应保护措施，有完善的逻辑程序互锁保护系统。设备尺寸：长 × 宽 × 高为 ≥1800mm×≥1020mm×≥1920mm。★5.4支持收集平台中所有终端硬件配置信息，包括终端名称、设备内存容量、最近运行时间、合计运行时间、硬件变更和记录信息等，便于实验室设备管理（提供此功能界面截图证明）。★5.5仪器设备综合管理平台具备全生命周期管理功能、运行数据分析、设备远程界面、设备状态分析、接口管理等功能（提供此功能界面截图证明）。