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国家集成电路创新中心原子层沉积系统招标(第二次)招标公告
日期:2025-09-05 收藏项目
项目所在地区:上海市
一、招标条件
本国家集成电路创新中心原子层沉积系统(第二次)已由项目审批/核准/备案机关批准,项目资金来源为其他资金企业研发经费,招标人为上海集成电路制造创新中心有限公司。本项目已具备招标条件,现招标方式为公开招标。

二、项目概况和招标范围
规模:购买原子层沉积系统 1 套,合同签订后 4 个月内交货。原子层沉积系统,是在真空状态下,通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在基底表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的装置。该设备可用于沉积各种氧化物、氮化物、金属单质等薄膜,主要用于制备微纳器件的介质层和电极层,也可以用于生长各类纳米材料的薄膜层。

范围:本招标项目划分为 1 个标段,本次招标为其中的:
(001)原子层沉积系统;
三、投标人资格要求
(001 原子层沉积系统)的投标人资格能力要求:
(1) 在中华人民共和国境内(不包括香港、澳门及台湾地区)登记成立的法人或非法人组织;
(2) 法人的分支机构以自己的名义参与投标时,应提供依法登记的相关证明材料和由法人出具的对该投标活动承担全部直接责任的明确承诺;
(3) 参加本次招标活动前三年内(从 2022 年 9 月 5 日至今)未被列入严重失信主体、失信被执行人或重大税收违法失信主体;
(4) 具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度;
(5) 具有履行合同所必需的设备和专业技术能力;
(6) 具备可靠的售后服务能力,拥有专业技术支持人员以及硬件维修工程师负责售后服务;
(7) 若投标人不是投标货物的制造商,则必须提供制造商出具的针对本项目的有效授权

书;
(8) 具备法律、行政法规规定的其他条件;
本项目不允许联合体投标。

四、招标文件的获取
获取时间:从 2025 年 09 月 05 日 09 时 00 分到 2025 年 09 月 12 日 16 时 00 分 领购招标文件。招标文件每套售价 500 元,售后不退。

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联系人:王越
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