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深圳大学多腔磁控溅射仪意向
日期:2025-08-28 收藏项目
它通过在不同真空腔室内独立完成溅射过程,避免交叉污染,从而确保薄膜的纯度和性能。该设备需满足以下要求:质量:薄膜沉积均匀性高,厚度控制精确,纯度高,结构致密,性能稳定可重复。服务:提供稳定的技术支持,包括设备安装、调试、操作培训及后续维护。安全:严格遵循高压、真空和高温操作的安全标准,具备完善.

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