硅片或玻璃基板的湿法清洗，需满足标准RCA（SC1/SC2）工艺要求；清洗设备需具备多槽式设计，支持去离子水冲洗、氮气干燥等功能；清洗设备需具备板级及晶圆级兆声系统、超声系统、清洗系统、干燥系统、自动传送系统，清洗设备兆声清洗功率需≥1200W，且所有系统均兼容8英寸晶圆和510mm*515mm玻璃基板。该项目所含的强碱供...
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