胶机数量：1台设备原理及用途：基本原理：在等离子射频的作用下，氧气和少量氮气产生的等离子体，和光刻胶反应,生成挥发物被抽出腔体最终达到去除光刻胶的目的。用途：本设备主要用于8英寸MEMS器件各种产品生产中光刻胶去除工艺。资金到位或资金来源落实情况:已到位项目已具备招标条件的说明:已具备2、招标内容招标项目..
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