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深圳大学超高真空剥离工艺镀膜设备意向
日期:2025-03-25 收藏项目
一种镀膜设备。拟采购设备兼容6英寸以下样品,6英寸范围内厚度均匀性优于±3%。配置高性能电子枪,支持多种材料的连续蒸镀,镀膜腔体极限真空度优于5×10⁻⁹Torr,配置样品台的水冷功能(5℃-25℃可调),保证光刻胶剥离工艺中能有效控制衬底温度,防止光刻胶碳化,实现实时可控的高精度薄膜制备。原厂免费保修期3年。..

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