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电子束光刻系统招标公告
日期:2025-02-28 收藏项目
导体制造、纳米技术等领域具有重要作用的高精度微纳加工设备。1.超大面积区域上的超快写入速度使得能够直接制作芯片级图案的原型,无需使用投影光刻技术,也无需使用(对于探索性工作而言)成本高得令人望而却步的掩模。2无需掩模:直接写入技术消除了对昂贵光刻掩模的需求,使其成为制作原型和小批量生产的理想选择...

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