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等离子体增强化学气相沉积设备招标公告
日期:2025-02-18 收藏项目
购品目:A********电子工业生产设备采购需求概况:设备名称:等离子体增强化学气相沉积设备。采购数量;1台。采购标的主要功能:用于生长氧化硅、氮化硅、TEOS氧化硅、a-C薄膜,镀膜均匀性≤±3%,质量、服务、安全、时限:提供8英寸晶圆生长腔体,具备3个腔体生长氧化硅、氮化硅、TEOS氧化硅、a-C薄膜,有8英寸传输平台与.

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