工业生产设备采购需求概况：该设备主要用于新型存储器MRAM磁性隧道结的刻蚀及原位保护。磁性隧道结的刻蚀工艺对结的形貌和侧壁有非常高的要求，要求配置IBE和ICP刻蚀功能，同时由于MRAM薄膜结构复杂，同时有很多重金属，因此也不能与常规的刻蚀腔体混用。此外磁性隧道结要求刻蚀后必须在不暴露真空的情况下对磁性隧道..
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