机设备1套，该设备主要功能是进行微纳米电子器件结构的刻蚀加工，还可用于电子功能薄膜的离子束清洗、材料表面终极抛光和材料减薄等，是制造微电子器件###路的关键工艺设备，具备能量范围广、刻蚀精度高、均匀性高等技术优势，设备指标参数先进。设备配备了制冷系统和反应离子束刻蚀功能，用于开展电子科学与技.
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