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深圳大学激光直写光刻机意向
日期:2024-09-25 收藏项目
同时配备不少于三种曝光分辨率书写模式如600nm、900nm以及5um用于快速完成不同细节要求的结构;为满足多层结构加工需求,正面套刻需要保证对位精度,套刻精度不大于250nm;此外灰度曝光能力不低于4096阶,实现精细控制灰度曝光精度;可加工的尺寸应满足八寸片且向下兼容;售后需提供3年维保。联系人:刘老师联系电话:********

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