一、光刻机主机*1.曝光面积≧Ф150mm；2.曝光照度均匀性≥97%；★3.曝光强度可调范围≧0～40mw/cm2；4.紫外光束角≤3˚；5.紫外光中心波长365nm；★6.曝光分辨率≦1μm；7.曝光模式至少包括一次曝光和套刻曝光；*8.分离量可调范围≧0～50μm可调；*9.接触－分离漂移距离≤1μm；10.曝光方式至少包括：密着曝光；*11.拥有三点式自动找平能力；*12.掩模版尺寸≧150×150mm；*13.可处理基片最大厚度≧5 mm；14.洁净空气压力≥********；二、软件系统15.拥有单双窗口对准调试功能；16.拥有色饱和度、亮度调整等图像调整功能；17.拥有截图保存等功能；

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