一、项目基本情况1、首次公告日期：2024年08月15日2、项目编号：HKUSTGZ-24-G********、项目名称：科研用高真空磁控溅射薄膜沉积系统采购项目二、更正（澄清）内容1、原采购文件《第四部分 采购需求》作以下更正：（1）“二、技术参数要求”技术指标要求中的“★ ******** 现场真空度≤5×10-5pa；充干燥氮气后开始抽气：30分钟真空低于5×10-4pa”，更正为：“★ ******** 极限真空度：≤8×10-6 (经烘烤除气后)；工作真空度：≤5×10-5pa；充干燥氮气后开始抽气：30分钟可达5×10-4pa”；（2）“
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