平整和损伤层，为后续工艺步骤如光刻、刻蚀等提供高质量衬底。通过精确的抛光液供给，实现抛光过程精确控制，确保一致性和稳定性；合适的抛光垫材质和驱动参数可显著提高抛光效率和抛光质量，减少划痕和损伤。实现深度清洗，去除微小污垢和残留物，同时保持平整度和光洁度。通过纯水漂洗，确保清洁度达到工艺要求，避.
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