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等离子增强型化学气相沉积设备-工艺腔二次招标招标公告
日期:2024-06-19 收藏项目
1.招标条件 

本招标项目武汉天马微电子有限公司采购项目,招标人为武汉天马微电子有限公司,招标项目资金已落实,该项目已具备招标条件,现对等离子增强型化学气相沉积设备-工艺腔(二次招标)进行公开招标。

2.项目概况与招标范围 

项目概况与招标范围:等离子增强型化学气相沉积设备-工艺腔   2台 

包名称:  等离子增强型化学气相沉积设备-工艺腔(二次招标)

数量: 2台

简要技术要求:(1)在有机发光二极管显示器工业中,PECVD(等离子增强型化学气相沉积)工艺用于形成表面隔离层(BL:Barrier layer);

(2)基板尺寸:1500mm (W) × 1850 mm(L) ;基板厚度:0.3~0.8mm;

(3)设备可用于生产表面隔离层,覆盖层,非晶硅层薄膜,金属层间绝缘层,层间绝缘层和钝化层薄膜。

3.投标人资格要求 

3.1投标人资格要求:(1)制造商应具有制造同类设备的经验,有销售业绩。制造商在中国有代理或维修机构能对产品提供长期维修服务保障。投标方推荐的设备应成熟可靠,2015年1月至今必须有同类型设备40台以上销售记录,用户反映效果良好(投标人需要提供业绩资料)。

(2)一旦中标,投标人必须是与招标人签订本项目合同的签约方。如投标人不具备与招标人签订合同的能力,其投标将被否决。(说明:招标中必须谁投标、谁中标、谁签合同,不能甲投标,乙签合同。)

3.2本次招标 不接受联合体投标。

3.3未领购招标文件是否可以参加投标:不可以。

4. 招标文件的获取 

4.1 获取时间:2024-06-19 00:00至 2024-06-26 23:59

4.2 招标文件价格:3500.00元或600.00(美元) ,售后不退。

5. 投标文件的递交及开标

5.1 投标文件递交截止时间(开标时间): 2024-07-10 09:30……

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