标采用线下招标方式，现邀请合格投标人参加投标。招标条件********项目概况：涂布有光刻胶的曲面光学元件的激光直写曝光，具有在曲面光学元件上进行图形激光直写曝光的能力，在喷涂有光刻胶的大尺寸曲面基片上光刻分辨率优于20μm，可直写曝光的基底材料包括但不限于光学级蓝宝石、单晶硅、单晶锗、石英、K9玻璃、硫化锌...
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