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曲面激光直写曝光机国际招标公告
日期:2024-04-22 收藏项目
1.1项目概况:涂布有光刻胶的曲面光学元件的激光直写曝光,具有在曲面光学元件上进行图形激光直写曝光的能力,在喷涂有光刻胶的大尺寸曲面基片上光刻分辨率优于20μm,可直写曝光的基底材料包括但不限于光学级蓝宝石、单晶硅、单晶锗、石英、K9玻璃、硫化锌等。

1.2资金到位或资金来源落实情况:资金来源已落实。

1.3项目已具备招标条件的说明:已具备招标条件。

招标内容

2.1项目实施地点:武汉

2.2招标产品列表:

序号

产品名称

数量

交货期

交货地点

1

曲面激光直写曝光机

1套

合同生效后150日内

CIP甲方指定地点

2.3简要技术规格:球罩类:内径φ40mm~φ300mm的半球凹面区域

投标人资格要求

3.1投标人应具备的资格或业绩:无。

3.2是否接受联合体投标:否。

3.3未在中招国际招标有限公司登记并领购招标文件的潜在投标人不得参加投标。

招标文件的领购

4.1招标文件领购开始时间:2024年4月22日起每天(节假日除外)上午9:00至17:00(北京时间)

4.2招标文件领购结束时间:2024年4月29日

4.3招标文件售价:每包售价为1000元人民币或170美元,售后不退。

投标文件的递交

5.1投标截止时间(开标时间):2024年5月14日下午14:00(北京时间)

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