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深圳技术大学热蒸发镀膜机意向
日期:2024-02-07 收藏项目
圆基板的蒸镀需求,适配公转;2.极限真空:≤3E-5Pa,压力上升:≤5E-6(Pa*m3/s);3.配备热阻蒸发源,钨舟数目≥5,钨舟量≥40cc,自动切换,具有自动定位功能,可蒸镀多层膜;4.薄膜均匀度:≤±5%(公转);5.热阻电源额定功率≥6kW;6.腔体内加热最大加热温度≥350℃;采用PID控温,控温精度:≤±********℃;7.具备薄膜实..

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